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CMP Orbis 柜式化學機械研磨拋光設備
產品地址：北京市廠商性質：經銷商更新時間：2026-05-25瀏覽次數：7911
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CMP Orbis 柜式化學機械研磨拋光設備簡介：
CMP Orbis 是一款精密設計的柜式化學機械拋光（CMP）系統，尤其適用于研發環境和中試生產測試。設備具備良好的工藝分析能力和增強型加工性能，可作為預生產測試中的關鍵工藝平臺，也可用于多種材料與器件加工場景，包括后道 IC 制造、MEMS、Opto-MEMS 及 Bio-MEMS 制造等。該系統可在多種材料上實現接近激光級的表面質量，并達到亞納米級 Ra 表面粗糙度。操作人員可通過觸摸屏靈活設置 CoF、載荷、拋光液供給等工藝參數；設備配備行業標準 CMP 金剛石修整器，可在加工過程中進行拋光墊修整，從而提高晶圓良率、工藝重復性并降低使用成本。
CMP Orbis 柜式化學機械研磨拋光設備特點：
多用途加工能力
低成本解決方案，可實現高價值結果
先進的設計配置
靈活的操作方式
穩定、可靠的良率表現
更加便捷的使用體驗
技術規格：
1）拋光材料的直徑：8英寸及以下 ；
2）拋光后粗糙度Ra≤1nm；
3）拋光后WIWNU≤5%，
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